Depósito de películas de SiOxNyHz mediante la técnica ECR-PECVD, caracterización y estabilidad térmica
En este trabajo se estudia el depósito de películas delgadas de SiOxNyHz mediante la técnica de plasma de resonancia ciclotrónica de electrones (ECR-PECVD), utilizando SiH4, O2 y N2 como gases precursores, así como las propiedades de dichas películas y su estabilidad térmica ante tratamientos...
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| Corporate Author: | |
| Format: | eBook |
| Language: | Spanish |
| Published: |
Madrid :
Universidad Complutense de Madrid,
2002.
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://elibro.net/ereader/unach/87715 |
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