Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado
Este documento describe brevemente, a manera de introduccin̤, las caracters̕ticas y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la tčnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la funcin̤ del sistema de automatizado, el cual tiene como fin...
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|---|---|
| フォーマット: | 図書 |
| 言語: | Spanish |
| 主題: | |
| オンライン･アクセス: | Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado |
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