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Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado

Este documento describe brevemente, a manera de introduccin̤, las caracters̕ticas y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la tčnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la funcin̤ del sistema de automatizado, el cual tiene como fin...

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Bibliografiset tiedot
Muut tekijät: Castillo H., Echeverry A. M., Zapata A. F., Devia A., Sociedad Colombiana de Fs̕ica
Aineistotyyppi: Kirja
Kieli:Spanish
Aiheet:
Equipo de control automt̀ico
Reactores qum̕icos
Procesos industriales
Automatic control equipment
Chemical reactors
Industrial processes
Reactor monoevaporador
Instrumentacin̤
Flujo de gases
Velocidad del movimiento de rotacin̤
Deposicin̤ de los metales
Monoevaporator reactor
Instrumentation
Gas flow velocity of the rotation movement
The deposition of metals
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